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BG-408双工位曝光机
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产品编号
数量
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0
所属分类
曝光设备
1
产品描述
参数
该设备为全自动曝光设备,主要用于中小规模集成电路和半导体元器件制造工艺中的对准及曝光。本产品自动完成基片的传输、对准与曝光工艺,操作方便、生产效率高、稳定性高。
The machine is a full-automatic exposure, mainly used for alignment and exposure in process of small and middle scale IC. Automatically completes the transmission, alignment and exposure process of substrate, which is convenient for operation, high production efficiency and high stability.
主要技术指标 Main Specifications
性能名称 | 技术指标 | Performance name | Technical indicators | ||
基片最大尺寸 | φ100mm | Maxi. Size of Wafer | φ100mm | ||
掩模最大尺寸 | 125mm×125mm | Maxi. Size of Mask | 125 mm×125 mm | ||
硅片或衬底厚度 | 0.2~1.1mm | Wafer Thickness | 0.2~1.1mm | ||
生产效率 | 260片/小时(一次曝光,曝光时间3s) | Productivity | 260 wafer/h (first exposure, exposure time 3s) | ||
工作台 | 对准精度 | 5μm | Worktable | Alignment Accuracy | 5μm |
曝光系统 | 曝光分辨率 | 2μm(接触曝光,正胶胶厚1μm) | Exposure System | Exposure Resolution | 2μm (Contact exposure, positive PR thick 1μm) |
关键词:
曝光
对准
物镜
系统
最大
传输
工作台
倍率
方便
上一个
SB-602双面曝光机
下一个
BG-607S双面全自动曝光机
销售电话 : 18618388462 / 18612902815
公司地址 : 河北省三河市燕郊开发区海油大街253号
网址 : www.jianhuagk.com
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市场部宋经理
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