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BG-501曝光机
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产品编号
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0
所属分类
曝光设备
1
产品描述
参数
主要用于中小规模集成电路和半导体元器件制造工艺中的对准及曝光。本产品操作方便、稳定性高、重复性好,并具有较高的性能价格比,可广泛应用于科研和生产。
The machine is mainly used for alignment and exposure in process of small and middle scale IC. It is easy to operate, high stability, good repeatability, can be widely used in scientific research and production.
主要技术指标 Main Specifications
性能名称 | 技术指标 | Performance name | Technical index |
适用最大基片尺寸 | Max 5″(φ125mm) | Applicable maximum substrate size | Max 5″(φ125mm) |
适用最大掩模版尺寸 | Max 6″(150mm×150mm) | Applicable maximum reticle size | Max 6″(150mm×150mm) |
基片与掩模版分离间隙 | 0~0.05mm | Separation Gap Between Substrate and Mask | 0~0.05mm |
对准精度 | ±1μm | Alignment Accuracy | ±1μm |
曝光分辨率 | 1.5μm(正胶、真空接触) | Exposure Resolution | 1.5μm(Positive PR, vacuum contact) |
关键词:
曝光
采用
分离
主要
尺寸
设备
光强
物镜
分辨率
上一个
BG-406系列曝光机
下一个
SB-602双面曝光机
销售电话 : 18618388462 / 18612902815
公司地址 : 河北省三河市燕郊开发区海油大街253号
网址 : www.jianhuagk.com
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市场部宋经理
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