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BG-406系列曝光机

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BG-406系列曝光机

BG-406系列曝光机主要用于中小规模集成电路、二极管、三极管、GPP器件、LED、电力电子器件、MEMS和其它半导体器件制造工艺中的对准和曝光。

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参数

BG-406系列曝光机主要用于中小规模集成电路、二极管、三极管、GPP器件、LED、电力电子器件、MEMS和其它半导体器件制造工艺中的对准和曝光。该系列曝光机包括4″、6″单/双面曝光机，可实现单/双面对准、单面曝光。

The series of BG-406 Mask Aligners could be used in aligning and exposure process of small or middle scale IC, Diode, dynatron, GPP, LED, Power Electronic devices, etc. The series of Mask Aligners include 4″，6″single/double sides aligning and single side exposure.

主要技术指标 Main Specifications

性能名称		技术指标	Performance name		Technical index
适用最大基片尺寸		Max 6″（φ150 mm）	Applicable maximum substrate size		Max 6″（φ150 mm）
适用最大掩模版尺寸		Max 7″（175×175 mm）	Applicable maximum reticle size		Max 7″（175×175 mm）
对准精度	顶部显微镜	±1μm	Alignment Accuracy	Top Microscope	±1μm
	底部显微镜	±2μm		Bottom Microscope	±2μm
曝光分辨率		1μm	Exposure Resolution		1μm