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SB-402双面曝光机
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产品编号
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0
所属分类
曝光设备
1
产品描述
参数
该设备主要用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合电路、微波器件及微电子机械系统(MEMS)等领域的双面对准和曝光。
The machine is mainly designed by double aligning and exposure process of photoelectric device, power device, sensors, hybrid circuits,micro wave device and MEMS etc.
主要技术指标 Main Specifications
性能名称 | 技术指标 | Performance name | Technical index |
适用基片尺寸 | Max. φ4″(φ100mm) | Substrate Size | Max. φ4″(φ100mm) |
适用掩模版尺寸 | Max. 5″(125mm×125mm) | Mask Size | Max. 5″(125mm×125mm) |
上下掩模版对准精度 | ±3μm | Mask Alignment Accuracy | ±3μm |
掩模对基片对准精度 | ±3μm(以单一面两标记形位检测) | Mask to Substrate Alignment Accuracy | ±3μm(Single-face two-mark detection) |
曝光分辨率 | 3μm(正胶)5μm(负胶) | Exposure Resolution | 3μm(Positive PR)5μm(Negative PR) |
关键词:
曝光
模版
对准
精度
结构
系统
采用
4mm
分离
上一个
BG-401B曝光机(LED)
下一个
BG-406系列曝光机
销售电话 : 18618388462 / 18612902815
公司地址 : 河北省三河市燕郊开发区海油大街253号
网址 : www.jianhuagk.com
假冒国企平台举报电话:010-61594769
市场部宋经理
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