Product Center

产品中心

当前位置：

首页

产品中心

曝光设备

BG-406/8NIL 纳米压印机

产品分类

查看分类 



浏览量:

1000

BG-406/8NIL 纳米压印机

零售价

0.0

元

市场价

0.0

元

浏览量:

1000

产品编号

数量

库存:

所属分类

曝光设备



资质文件

产品描述

参数

该设备为半自动纳米压印设备，适用于MEMS、微光学、增强现实和光电传感器等领域。该产品自动完成楔形误差补偿以及压印工艺，操作简单，生产效率高，稳定性好。

The semi-automatic Nanoimprint equipment mainly used for MEMS, Micro-optics, augmented reality and photoelectric sensors. The product automatically completes the wedge error compensation and Nanoimprint process of the substrate, with simple operation, high production efficiency and good stability.

主要技术指标 Main Specifications

性能名称		技术指标	Performance name		Technical index
适用基片尺寸		Max. 8″	substrate size		Max. 8″
适用掩模版尺寸		Max. 9″	Mask size		Max. 9″
晶圆或衬底厚度		0.2~1.1mm	Wafer or substrate thickness		0.2~1.1mm
对准精度		±1.5μm	Alignment Accuracy		±1.5μm
对准显微镜	放大倍率	40X~300X	Align the microscope	Magnification	40X~300X
	物镜分离量	60~145mm		Amount of objective separation	60~145mm
分辨率		2μm	Resolution		2μm
曝光时间		0~999.9s	Exposure		0~999.9s