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BG-406/8NIL 纳米压印机

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BG-406/8NIL 纳米压印机

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0
所属分类
曝光设备
1
产品描述
参数
该设备为半自动纳米压印设备,适用于MEMS、微光学、增强现实和光电传感器等领域。该产品自动完成楔形误差补偿以及压印工艺,操作简单,生产效率高,稳定性好。
The semi-automatic Nanoimprint equipment mainly used for MEMS, Micro-optics, augmented reality and photoelectric sensors. The product automatically completes the wedge error compensation and Nanoimprint process of the substrate, with simple operation, high production efficiency and good stability.

主要技术指标  Main Specifications  

 

性能名称 技术指标  Performance name Technical index
适用基片尺寸 Max. 8″ substrate size Max. 8″
适用掩模版尺寸 Max. 9″ Mask size Max. 9″

晶圆或衬底厚度

0.2~1.1mm Wafer or substrate thickness 0.2~1.1mm
对准精度 ±1.5μm

Alignment Accuracy

 

±1.5μm
对准显微镜  放大倍率 40X~300X Align the microscope

Magnification

40X~300X

物镜分离量

60~145mm
Amount of objective separation 
60~145mm
分辨率 2μm Resolution 2μm
曝光时间 0~999.9s Exposure 0~999.9s

 

 

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