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BG-401B曝光机(LED)

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BG-401B曝光机(LED)

主要用于中小规模集成电路和半导体元器件制造工艺中的对准及曝光。本产品采用LED光源,操作方便、稳定性高、重复性好,并具有较高的性能价格比,可广泛应用于科研和生产。
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所属分类
曝光设备
1
产品描述
参数

主要用于中小规模集成电路和半导体元器件制造工艺中的对准及曝光。本产品采用LED光源,操作方便、稳定性高、重复性好,并具有较高的性能价格比,可广泛应用于科研和生产。

The machine is mainly used for alignment and exposure in process of small and middle scale IC. It is use LED light source, easy to operate, high stability, good repeatability, can be widely used in scientific research and production.

主要技术指标  Main Specifications

 

 

性能名称 技术指标 Performance name Technical index
适用基片尺寸 Max. φ4″(φ100mm) Substrate Size Max. φ4″(φ100mm)
适用掩模版尺寸 Max. 5″(125mm×125mm) Mask Size Max. 5″(125mm×125mm)
基片与掩模版分离间隙 0~0.05mm Separation Gap Between Substrate and Mask 0~0.05mm
对准精度 ±1μm Alignment Accuracy ±1μm
曝光光源 UVLED灯 Exposure Light Source UVLED lamp
曝光分辨率 1.5μm(正胶真空复印) Exposure Resolution 1.5μm(Positive PR  Vacuum contact)
关键词:
曝光
视场
采用
分离
主要
对准
尺寸
设备
光强
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