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BG-401A曝光机

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BG-401A曝光机

主要用于中小规模集成电路和半导体元器件制造工艺中的对准及曝光。本产品操作方便、稳定性高、重复性好，并具有较高的性能价格比，可广泛应用于科研和生产。

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资质文件

产品描述

参数

The machine is mainly used for alignment and exposure in process of small and middle scale IC. It is easy to operate, high stability, good repeatability, can be widely used in scientific research and production.

主要技术指标 Main Specifications

性能名称	技术指标	Performance name	Technical index
适用基片尺寸	Max. φ4″（φ100mm）	Substrate Size	Max. φ4″（φ100mm）
适用掩模版尺寸	Max. 5″（125mm×125mm）	Mask Size	Max. 5″（125mm×125mm）
基片与掩模版分离间隙	0～0.05mm	Separation Gap Between Substrate and Mask	0～0.05mm
对准精度	±1μm	Alignment Accuracy	±1μm
曝光分辨率	1.5μm（真空接触）	Exposure Resolution	1.5μm（Vacuum contact）