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12-02

讲一讲曝光机的工作原理

  什么是曝光机?伴随着电子数码产品高精度成像的市场需求,对pcb电路板的设计与出产的标准也愈来愈高。这促使了pcb线路板出产所需要的曝光机器设备的研制开发。因而研究开发出平行光曝光机器设备是出产密集型细线路的关键所在。
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关于匀胶机的基本使用介绍

  该设备主要用于晶片涂光刻胶,有主动、手动和半主动三种工作方式。送片盒中的晶片,主动送到承片台上,用真空吸附,在主轴电机的带动下旋转,转速100-9900转/分(±10转/分),起动加速度可调。
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介绍一下显影技术的特点

  显影是在硅片外表光刻胶中产生图形的关键步骤。光刻胶上的可溶解区域被化学显影剂溶解,将可见的岛或许窗口图形留在硅片外表。最常见的显影方法是旋转、喷雾、润泽,然后显影。硅片用去离子水冲刷后甩干。
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关于显影技术的详细介绍

  显影是在光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解,在光刻胶上构成三维图形的一种光刻技术。显影是在硅片外表光刻胶中产生图形的关键步骤。光刻胶上的可溶解区域被化学显影剂溶解。
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