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美国ABM光刻机

美国ABM光刻机

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美国ABM光刻机

【概要描述】

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    ABM光刻机公司成立于1986年,总部位于美国硅谷San Jose.主要经营光罩对准曝光机(光刻机),单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

QP-301D内圆切片机

    截止到2010年3月,ABM公司在世界范围售出了800多台光刻机,50多台单独曝光系统。在美国拥有众多客户,最著名的客户是美国NASA和INTEL,ABM光刻机在台湾销量第一,超过半数的大学、研究所和部分工厂使用ABM的光刻机。

    ABM光刻机在中国销售超过150台,拥有众多的不同类型的客户,包括:国家重点实验室、各领域研究所、知名大学和为数众多的工厂,设备用于生产和研发,ABM光刻机愿以其优越的性能和有竞争力的价格为中国半导体市场提供了优良的产品和良好的服务。

    ABM光刻机总部位于美国硅谷,亚太销售服务、维修中心设于中国香港,公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有代理机构。

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讲一讲曝光机的工作原理
  什么是曝光机?伴随着电子数码产品高精度成像的市场需求,对pcb电路板的设计与出产的标准也愈来愈高。这促使了pcb线路板出产所需要的曝光机器设备的研制开发。因而研究开发出平行光曝光机器设备是出产密集型细线路的关键所在。
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关于匀胶机的基本使用介绍
  该设备主要用于晶片涂光刻胶,有主动、手动和半主动三种工作方式。送片盒中的晶片,主动送到承片台上,用真空吸附,在主轴电机的带动下旋转,转速100-9900转/分(±10转/分),起动加速度可调。
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介绍一下显影技术的特点
  显影是在硅片外表光刻胶中产生图形的关键步骤。光刻胶上的可溶解区域被化学显影剂溶解,将可见的岛或许窗口图形留在硅片外表。最常见的显影方法是旋转、喷雾、润泽,然后显影。硅片用去离子水冲刷后甩干。
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